مرشح تركيز PGN و PGNX

مرشح التركيز هو نظام متكامل متقدم مصمم لتطبيقات التخليق الكيميائي ومعالجة الجسيمات بكفاءة. يتكامل بسلاسة مع مفاعلات التوليف لتعزيز كفاءة التفاعل ، وتحقيق توزيع موحد لحجم الجسيمات (PSD) ، وتحسين مورفولوجيا المواد. يدعم هذا الحل متعدد الاستخدامات التصنيع المستدام من خلال تقليل النفايات وزيادة الإنتاجية إلى أقصى حد من خلال التحكم الدقيق والأتمتة.

تشمل المزايا الرئيسية ما يلي:

  • سلامة الجسيمات المحسنة للحصول على جودة فائقة للمنتج
  • تحسين كفاءة الترسيب المشترك
  • تقليل فقدان المواد أثناء المعالجة

مع خيارات بطانة المواد المرنة للمكونات الملامسة للملاط والترشيح المغناطيسي الخالي من الشوائب ، فإنه يضمن التشغيل الخالي من التلوث. تتيح الميزات المؤتمتة بالكامل ، مثل التدفق العكسي المجمع ، وركوب الدراجات المستمر ، والتحكم متعدد النقاط ، إنتاجا عالي الإنتاجية دون انقطاع.

الميزات التقنية

Modular Design

تصميم معياري

يتألف من الوعاء الرئيسي ، والمحرك ، والمخفض ، ونظام النقل ، والمحرض ، وآلية الختم ، ومفاعل خط الأنابيب ، وأنابيب الترشيح الصغيرة التي يسهل اختراقها ، وأنبوب السحب ، والدعامات ، وواجهات العملية ، والأنابيب ، والصمامات ، والأجهزة ، ونظام التحكم PLC ، وجهاز الفراغ.

Drive System

نظام القيادة

مجهزة بمخفضات عالية الجودة (على سبيل المثال ، SEW أو ما يعادلها) ومحركات التردد المتغير للتحكم في سرعة المحرض بدون خطوات ، مما يضمن الخلط الأمثل.

Agitation

توجيه التحريض والتدفق

تعمل شفرات المجداف المخصصة المقترنة بأنبوب سحب على تعزيز الخلط الشامل والتدفق المضطرب ، المصممة خصيصا لخصائص المواد وحجم الوعاء لتحقيق أقصى قدر من توحيد التفاعل.

Sealing Options

خيارات الختم

الحشوات أو موانع التسرب الميكانيكية المزدوجة لتلبية متطلبات العملية ، مما يمنع التسرب في البيئات الصعبة.

pipeline reactor

مفاعل خط الأنابيب

نسبة عالية من الطول إلى القطر (>50) للتفاعلات المضطربة الشديدة ؛ قابلة للتخصيص باستخدام أحدث التقنيات المحلية أو الدولية.

Filtration and Automation

الترشيح والأتمتة

توفر الأنابيب الصغيرة التي يسهل اختراقها ترشيحا دقيقا وغير مغناطيسي. يراقب النظام الإشرافي المتكامل DCS ويتحكم في المعلمات مثل الأس الهيدروجيني ومعدلات التدفق (الفورية والتراكمية) ودرجة الحرارة عبر الموقع وغرفة التحكم والوصلة الثلاثية للمضخة.

أداء العملية

PGNX process 1

رد الفعل والشيخوخة: بعد مفاعل خط الأنابيب ، تخضع المواد لتخليق ممتد وشيخوخة عن طريق التحريض والترشيح الصغير الذي يسهل اختراقه ، مما يضمن التحول الكيميائي الكامل.

غسل: يقدم الماء النقي أو الماء الساخن أو المذيبات الأخرى من خلال أنابيب العملية للتنظيف الشامل القائم على التحريك ، وتلبية معايير النقاء الصارمة.

تركيز: تعمل أنظمة التفريغ المرتبط والترشيح الصغير الذي يسهل اختراقه والتحكم على تركيز المواد المتفاعلة تدريجيا على استهداف الكثافات ، مما يدعم المعالجة الفعالة في اتجاه مجرى المصب.

الكفاءة العامة: يتيح دورات مستمرة ومؤتمتة بأقل وقت تعطل، مما يقلل من استخدام الطاقة وهدر المواد مع الحفاظ على ثبات PSD والتشكل للحصول على مخرجات عالية الجودة.

المواصفات المرجعية

نطاق / قيمة المعلمة
حجم السفينة0.5-30 متر مكعب
مساحة التصفية0.2-40 م²
دقة الترشيح0.3-10 ميكرومتر
درجة الفراغ -0.01 إلى -0.1 ميجا باسكال
ضغط الهواء العكسي0.1-0.7 ميجا باسكال
بطانات مقاومة للتآكلSUS304
SUS316L
TA2
تيتانيوم مبطن بالفولاذ
الفولاذ المقاوم للصدأ المبطن بالفولاذ
بلاستيك مبطن بالفولاذ

قابل للتخصيص بالكامل بناء على احتياجات التطبيق الخاص بك

دونغو - شريكك في حلول الترشيح الدقيق

الأخبار

Contact Us

اتصل بنا